nemu

โซลูชันการเติมรูเวีย (Via-filling Solutions)

ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย
(Via-filling Substrate)

  • ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย<br>(Via-filling Substrate)サムネイル1
  • ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย<br>(Via-filling Substrate)サムネイル1

ด้วยการใช้เทคโนโลยีการเติมรูเวียแบบนำไฟฟ้าสูงและไม่เกิดการหดตัว (Non-shrinkage Via Filling) ทำให้สามารถเติมเพสต์ทองแดงหรือเพสต์เงินลงในโครงสร้างรูเวียได้อย่างสม่ำเสมอ รองรับรูเวียหลากหลายรูปแบบและขนาด

เทคโนโลยีนี้ได้รับการนำไปใช้อย่างแพร่หลายในแพ็กเกจเซรามิกสำหรับงานโทรคมนาคม และได้รับการยอมรับในด้านความน่าเชื่อถือสูงและคุณภาพที่สม่ำเสมอ

เราจัดจำหน่ายผลิตภัณฑ์ในรูปแบบซับสเตรตกึ่งสำเร็จรูปที่ผ่านการเติมรูเวียเรียบร้อยแล้ว พร้อมให้บริการแบบครบวงจรตั้งแต่การเจาะรูเวีย การเติมรูเวีย ไปจนถึงการขัดผิว

ด้วยการให้บริการแบบครบวงจร (One-stop Solution) เราช่วยลดความซับซ้อนในการบริหารจัดการกระบวนการผลิต และช่วยให้สามารถรักษาคุณภาพของผลิตภัณฑ์ได้อย่างสม่ำเสมอ

รายละเอียดสินค้า

คุณสมบัติ

  • โครงสร้างรูเวียที่มีความน่าเชื่อถือและสมรรถนะสูง
    (Highly Reliable and High-Performance Via-Filled Structures)

    การเติมรูเวียได้อย่างสม่ำเสมอโดยมีโพรงอากาศ (Voids) และช่องว่างน้อย ช่วยให้ยึดเกาะกับซับสเตรตได้อย่างดีเยี่ยม โครงสร้างที่ได้มีทั้งความน่าเชื่อถือทางไฟฟ้าและความแข็งแรงเชิงกลสูง เหมาะสำหรับงานที่ต้องการการเดินลายวงจรความหนาแน่นสูงและประสิทธิภาพการระบายความร้อนที่ดี

    พื้นผิวซับสเตรตราบเรียบ รองรับการติดตั้งชิ้นส่วนได้ดีขึ้น
    (Smooth Substrate Surface for Improved Mountability)

    สามารถปรับแต่งพื้นผิวซับสเตรตให้มีความเรียบสูง ทำให้สามารถติดตั้งชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์เหนือบริเวณรูเวียที่เติมแล้วได้โดยตรง ช่วยเพิ่มความยืดหยุ่นในการออกแบบและใช้พื้นที่บนซับสเตรตได้อย่างมีประสิทธิภาพมากยิ่งขึ้น

    สอดคล้องกับข้อกำหนดด้านสิ่งแวดล้อม
    (Compliance with Environmental Regulations)

    เป็นไปตามข้อกำหนด RoHS 2 Directive ช่วยลดผลกระทบต่อสิ่งแวดล้อม และสามารถนำไปใช้งานได้อย่างมั่นใจในผลิตภัณฑ์ที่ต้องการความสอดคล้องกับมาตรฐานด้านสิ่งแวดล้อมสากล।

ข้อกำหนด

ซับสเตรตเซรามิก
ซับสเตรตเซรามิก  
ซับสเตรตเซรามิก
ซับสเตรตแก้ว
ซับสเตรตแก้ว
ซับสเตรตอินทรีย์
ซับสเตรต
วัสดุซับสเตรต
 AlN, Al₂O₃, SiN Quartz glass, Alkali-free glass Glass epoxy
ขนาด / ความหนา
2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm 2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm 2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm 
รูเวีย
โลหะที่ใช้เติม
Ag   Cu Ag-Cu alloy Ag Cu Ag
เส้นผ่านศูนย์กลางรูเวีย
Φ0.05~1.0 mm Φ0.05~2.0 mm Φ0.05~1.0 mm Φ0.05~0.5 mm Φ0.05~0.5 mm Φ0.05~0.5 mm
อุณหภูมิการเผา
~900 ℃ ~900 ℃ ~900 ℃ 500~600 ℃ 400~800 ℃ 200~300 ℃
บรรยากาศการเผา
Air N₂ N₂ Air N₂ Air
ค่าความต้านทานไฟฟ้าจำเพาะ
3~4 µΩ・cm 5~7 µΩ・cm 10 µΩ・cm 2~4 µΩ・cm 3~6 µΩ・cm 5~8 µΩ・cm
Aspect Ratio 1.0~10.0 1.0~10.0 1.0~10.0 1.0~10.0 1.0~10.0 1.0~10.0
ไม่ขัดผิว
ความเรียบของบริเวณที่เติม
<±30 µm <±30 µm - <±20 µm <±20 µm <±20 µm
การขัดแบบ LAP
ปริมาณเผื่อสำหรับการขัดที่แนะนำ*
>0.15 mm >0.15 mm >0.15 mm >0.15 mm >0.15 mm >0.15 mm
ความเรียบของบริเวณที่เติม
<±3 µm  <±3 µm  <±3 µm  <±3 µm  <±3 µm  <±3 µm 
การขัดแบบ POL
ปริมาณเผื่อสำหรับการขัดที่แนะนำ*
>0.15 mm  >0.15 mm  >0.15 mm  >0.15 mm  >0.15 mm  >0.15 mm 
ความเรียบของบริเวณที่เติม
<±2 µm  <±2 µm  <±2 µm  - -
หน้าตัดของรูเวีย
el_vi_01_02.png el_vi_01_03.png el_vi_01_04.png el_vi_01_05.png el_vi_01_06.png el_vi_01_07.png
พื้นผิวของรูเวีย
el_vi_01_08.png el_vi_01_09.png el_vi_01_10.png el_vi_01_11.png el_vi_01_12.png el_vi_01_13.png

ตัวอย่างการใช้งาน

  • ซับสเตรตแพ็กเกจและซับสเตรตโมดูลที่ต้องการความน่าเชื่อถือสูงและประสิทธิภาพการระบายความร้อนที่ดีเยี่ยม
    (Package Substrates and Module Substrates Requiring High Reliability and Efficient Heat Dissipation)

วิดีโอแนะนำผลิตภัณฑ์

  • ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย (Via-filling Substrate)