โซลูชันการเติมรูเวีย (Via-filling Solutions)
ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย
(Via-filling Substrate)
รายละเอียดสินค้า
คุณสมบัติ
-
โครงสร้างรูเวียที่มีความน่าเชื่อถือและสมรรถนะสูง
(Highly Reliable and High-Performance Via-Filled Structures)
การเติมรูเวียได้อย่างสม่ำเสมอโดยมีโพรงอากาศ (Voids) และช่องว่างน้อย ช่วยให้ยึดเกาะกับซับสเตรตได้อย่างดีเยี่ยม โครงสร้างที่ได้มีทั้งความน่าเชื่อถือทางไฟฟ้าและความแข็งแรงเชิงกลสูง เหมาะสำหรับงานที่ต้องการการเดินลายวงจรความหนาแน่นสูงและประสิทธิภาพการระบายความร้อนที่ดีพื้นผิวซับสเตรตราบเรียบ รองรับการติดตั้งชิ้นส่วนได้ดีขึ้น
(Smooth Substrate Surface for Improved Mountability)
สามารถปรับแต่งพื้นผิวซับสเตรตให้มีความเรียบสูง ทำให้สามารถติดตั้งชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์เหนือบริเวณรูเวียที่เติมแล้วได้โดยตรง ช่วยเพิ่มความยืดหยุ่นในการออกแบบและใช้พื้นที่บนซับสเตรตได้อย่างมีประสิทธิภาพมากยิ่งขึ้นสอดคล้องกับข้อกำหนดด้านสิ่งแวดล้อม
(Compliance with Environmental Regulations)
เป็นไปตามข้อกำหนด RoHS 2 Directive ช่วยลดผลกระทบต่อสิ่งแวดล้อม และสามารถนำไปใช้งานได้อย่างมั่นใจในผลิตภัณฑ์ที่ต้องการความสอดคล้องกับมาตรฐานด้านสิ่งแวดล้อมสากล।
ข้อกำหนด
|
ซับสเตรตเซรามิก
|
ซับสเตรตเซรามิก
|
ซับสเตรตเซรามิก
|
ซับสเตรตแก้ว
|
ซับสเตรตแก้ว
|
ซับสเตรตอินทรีย์
|
||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
ซับสเตรต
|
วัสดุซับสเตรต
|
AlN, Al₂O₃, SiN | Quartz glass, Alkali-free glass | Glass epoxy | |||
|
ขนาด / ความหนา
|
2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm | 2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm | 2×2~4.5×4.5 inch, 0.2~1.0 mm | ||||
|
รูเวีย
|
โลหะที่ใช้เติม
|
Ag | Cu | Ag-Cu alloy | Ag | Cu | Ag |
|
เส้นผ่านศูนย์กลางรูเวีย
|
Φ0.05~1.0 mm | Φ0.05~2.0 mm | Φ0.05~1.0 mm | Φ0.05~0.5 mm | Φ0.05~0.5 mm | Φ0.05~0.5 mm | |
|
อุณหภูมิการเผา
|
~900 ℃ | ~900 ℃ | ~900 ℃ | 500~600 ℃ | 400~800 ℃ | 200~300 ℃ | |
|
บรรยากาศการเผา
|
Air | N₂ | N₂ | Air | N₂ | Air | |
|
ค่าความต้านทานไฟฟ้าจำเพาะ
|
3~4 µΩ・cm | 5~7 µΩ・cm | 10 µΩ・cm | 2~4 µΩ・cm | 3~6 µΩ・cm | 5~8 µΩ・cm | |
| Aspect Ratio | 1.0~10.0 | 1.0~10.0 | 1.0~10.0 | 1.0~10.0 | 1.0~10.0 | 1.0~10.0 | |
|
ไม่ขัดผิว
|
ความเรียบของบริเวณที่เติม
|
<±30 µm | <±30 µm | - | <±20 µm | <±20 µm | <±20 µm |
|
การขัดแบบ LAP
|
ปริมาณเผื่อสำหรับการขัดที่แนะนำ*
|
>0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm |
|
ความเรียบของบริเวณที่เติม
|
<±3 µm | <±3 µm | <±3 µm | <±3 µm | <±3 µm | <±3 µm | |
|
การขัดแบบ POL
|
ปริมาณเผื่อสำหรับการขัดที่แนะนำ*
|
>0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm | >0.15 mm |
|
ความเรียบของบริเวณที่เติม
|
<±2 µm | <±2 µm | <±2 µm | - | - | ||
|
หน้าตัดของรูเวีย
|
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
|
|
พื้นผิวของรูเวีย
|
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
|
ตัวอย่างการใช้งาน
-
ซับสเตรตแพ็กเกจและซับสเตรตโมดูลที่ต้องการความน่าเชื่อถือสูงและประสิทธิภาพการระบายความร้อนที่ดีเยี่ยม
(Package Substrates and Module Substrates Requiring High Reliability and Efficient Heat Dissipation)
วิดีโอแนะนำผลิตภัณฑ์
-
ซับสเตรตแบบเติมรูเวีย (Via-filling Substrate)











